JSR costruisce il primo impianto di photoresist a Taiwan in partnership con TSMC
Il colosso giapponese investirà milioni per rafforzare la collaborazione con TSMC e accelerare lo sviluppo di photoresist avanzati.
JSR, secondo produttore giapponese di photoresist a livello globale, ha annunciato la costruzione del primo impianto produttivo a Taiwan per sviluppare e fornire materiali avanzati in collaborazione con TSMC. La nuova fabbrica, realizzata tramite una joint venture locale, dovrebbe essere operativa già nel 2028 grazie a un investimento di decine di milioni di dollari.
Questo passo permetterà a JSR di colmare il divario competitivo rispetto a rivali come Tokyo Ohka Kogyo e Shin-Etsu Chemical, già presenti con siti produttivi a Taiwan. Finora JSR spediva campioni dai suoi impianti in Giappone, USA e Belgio, rallentando i cicli di sviluppo. La presenza locale consentirà uno scambio più rapido con i team di TSMC, fondamentale per ottimizzare i resist destinati ai nodi di processo più avanzati.
L’azienda valuta anche la produzione di altri materiali strategici, come abrasivi per substrati semiconduttori. Parallelamente, JSR sta espandendo la sua capacità globale con un impianto di metal oxide resist (MOR) in Corea del Sud, destinato alla produzione su larga scala per Samsung e SK hynix e, in futuro, per TSMC nelle linee EUV di prossima generazione.
