Micron sotto accusa per rischio 'forever chemicals' nel nuovo stabilimento di New York
Nuova causa legale contro Micron: dubbi sull’efficacia dei permessi ambientali per la fabbrica di semiconduttori a Clay, NY.
La realizzazione del nuovo complesso produttivo Micron a Clay, New York, torna al centro delle polemiche dopo il deposito di una nuova causa ambientale. Le associazioni Neighbors for a Better Micron e Jobs to Move America contestano la validità dei permessi per lo smaltimento di acque reflue e emissioni aeree rilasciati a Micron dal Dipartimento per la Conservazione Ambientale (DEC) dello Stato di New York.
Secondo i ricorrenti, i permessi attuali non sarebbero sufficienti a limitare la dispersione di PFAS, noti come "forever chemicals", nel fiume Oneida e nell'atmosfera. Queste sostanze chimiche sintetiche, utilizzate nella produzione di semiconduttori, sono estremamente persistenti e pericolose per l'ambiente e la salute pubblica. Il ricorso sottolinea come i permessi concedano il rilascio degli inquinanti, limitandosi al monitoraggio senza imporre controlli sostanziali.
Le organizzazioni chiedono la revoca dei permessi e una revisione più rigorosa in base alla normativa ambientale statale. L'obiettivo è costringere Micron a rispettare standard più stringenti prima dell’avvio della produzione. Attualmente, la causa non ha ancora una data fissata per la discussione in tribunale.
