Nikon sfida ASML nei sistemi di litografia: prezzi più bassi per riconquistare i chipmaker USA
Il nuovo CEO di Nikon punta sulle tecnologie ArF e sulla produzione interna per contendere ad ASML il mercato della litografia DUV.
Nikon annuncia una strategia aggressiva per riconquistare la quota di mercato persa nella litografia, puntando sui sistemi ArF immersion a prezzi inferiori rispetto al leader ASML. Secondo il presidente e CEO Yasuhiro Ohmura, la produzione interna di molti componenti offre a Nikon un significativo vantaggio competitivo in termini di costi.
La scelta di competere sul prezzo mira a soddisfare la crescente domanda di strumenti di litografia DUV, fondamentale anche nelle tecnologie più avanzate come i chip a 3nm. Nikon sta trattando con importanti chipmaker statunitensi e asiatici e le negoziazioni sono considerate prossime agli ordini.
Nonostante ASML mantenga il monopolio sui sistemi EUV, più sofisticati, la piattaforma ArF di Nikon resta rilevante in molti passaggi produttivi. Nikon, uscita dal mercato EUV nel 2008, ha annunciato il lancio di una nuova piattaforma ArF immersion per il 2028, compatibile con gli strumenti già diffusi di ASML.
«I chipmaker preferiscono avere due fornitori per evitare dipendenze e contenere i costi», ha dichiarato Ohmura. Resta da capire se la sola leva del prezzo sarà sufficiente per recuperare clienti, dopo anni di calo nelle vendite e partnership di lungo periodo tra ASML e i grandi produttori di semiconduttori.
