Samsung punta su Taylor, Texas: nuova fabbrica record con pellicole EUV per chip avanzati
La nuova fab di Samsung a Taylor sarà la più grande per logica, introdurrà pellicole EUV e mira a 50.000 wafer mensili.
Samsung sta per inaugurare una delle sue più ambiziose strutture produttive: la fabbrica di Taylor, Texas, destinata a diventare il sito di produzione logica più grande dell’azienda. La fab sarà equipaggiata con sistemi di litografia EUV avanzata di ASML e, per la prima volta, Samsung adotterà le pellicole (pellicles) per la patterning EUV, cambiando radicalmente il flusso produttivo.
Secondo fonti industriali, la produzione di rischio inizierà nel 2026, con una capacità obiettivo di 50.000 wafer starts per month (WSPM) su processi SF2/SF3P, numeri superiori ai principali concorrenti come Intel e TSMC.
L’introduzione delle pellicole, membrane ultrasottili che proteggono il photomask da contaminazioni durante l’esposizione, rappresenta una svolta per Samsung: "Le pellicole riducono drasticamente i difetti stocastici da maschera, migliorando la stabilità del rendimento, aspetto cruciale su nodi avanzati 2nm". Fino ad oggi, il produttore coreano aveva evitato le pellicole EUV a causa dei costi e dei limiti tecnologici, ma l’evoluzione dei sistemi e la domanda di chip complessi da clienti come Tesla ha reso la loro adozione indispensabile.
La fabbrica di Taylor sarà così centrale nella strategia di Samsung Foundry per competere nell’arena dei semiconduttori di fascia alta, puntando a ridurre la variabilità di rendimento che storicamente ne ha limitato il ruolo nella produzione EUV.
