Terafab di Elon Musk riceverà il primo sistema EUV di ASML nel 2027
Il primo scanner EUV di ASML arriverà in anticipo rispetto alla produzione effettiva, mentre la fabbrica Terafab prepara le basi per la produzione di chip.
La nuova fabbrica Terafab, guidata da Elon Musk, riceverà il suo primo sistema di litografia EUV prodotto da ASML a metà 2027. Pur trattandosi di una consegna significativa, il macchinario rimarrà inutilizzato per diversi mesi, in attesa che la struttura sia completata e resa operativa negli step successivi.
La fabbrica, sita nel campus Giga Texas vicino ad Austin, sarà utilizzata per lo sviluppo e la sperimentazione di produzione di semiconduttori, con l’obiettivo di preparare il team alla futura produzione in volumi. Secondo SemiAnalysis, la costruzione terminerà a fine 2027, seguita dall’installazione delle attrezzature e dalla fase di testing dei processi produttivi.
Nonostante Musk abbia espresso interesse per tecnologie innovative come le free electron laser (FEL), Terafab si affiderà inizialmente a sistemi EUV convenzionali, in particolare per utilizzare la tecnologia produttiva 14A sviluppata da Intel. L’adozione di strumenti tradizionali ridurrà i rischi e accelererà l’avviamento produttivo.
Secondo le stime, la produzione vera e propria prenderà il via solo a fine 2029, quando la fabbrica entrerà nella fase di ramp-up verso la produzione a regime. Pur non utilizzando il nodo produttivo più avanzato del settore, la strategia permetterà a Terafab di soddisfare le esigenze di SpaceX, Tesla e xAI, ottimizzando costi e tempi rispetto ai leader di mercato.
