JSR apre la prima fabbrica di photoresist EUV a Taiwan per TSMC
Il colosso chimico giapponese colma il gap tecnologico, rafforzando la collaborazione locale con TSMC nella produzione di materiali avanzati.
JSR, leader giapponese nel settore dei materiali per semiconduttori, ha annunciato la costruzione della sua prima fabbrica di photoresist per litografia EUV a Taiwan, in collaborazione con Wah Lee Industrial e LCY Chemical. L'impianto sorgerà nella contea di Yunlin e sarà operativo dal 2028, segnando un passo strategico per rafforzare la collaborazione diretta con TSMC.
La decisione risponde alla crescente domanda di chip AI e alla necessità di accelerare i cicli di co-sviluppo tra fornitore e fonderia: "La velocità è cruciale", ha dichiarato il CEO Tetsuro Hori, sottolineando i vantaggi della produzione locale. Finora, JSR era l'ultimo dei tre grandi fornitori giapponesi di resina EUV senza base a Taiwan, mentre TOK e Shin-Etsu operano sull'isola da anni.
Oltre ai photoresist convenzionali, JSR punta a produrre in futuro anche metal oxide resist (MOR), tecnologia che promette maggiore efficienza e risoluzione nei nodi di processo più avanzati. La presenza produttiva locale permette a TSMC di eliminare lunghi tempi di spedizione e iterazioni, accelerando la messa a punto dei nuovi materiali per processi a 2nm e oltre.
Con questa mossa, tutti i principali fornitori giapponesi di materiali stanno consolidando la loro presenza a Taiwan, mantenendo così il vantaggio competitivo rispetto ai concorrenti cinesi nella fornitura di materiali chiave per la litografia EUV.
